Riposo nella fuga in Egitto
Opera fotografata
- Autore / Ambito culturale
- Gentileschi Orazio, 1563/ 1639 (classificazione Fototeca Longhi)
- Soggetto / Titolo
- Riposo nella fuga in Egitto
- Datazione
- sec. XVI/ XVII (1590 - 1639)
- Tipo di oggetto
- dipinto
- Materia / Tecnica
- olio su tela
- Ultima localizzazione
- J. Paul Getty Museum, Malibu (CA) (California, Stati Uniti d'America)
- Specifiche
- inv. 71.PA.12
- Numero scheda
- 924